課程資訊
課程名稱
半導體工程
SEMICONDUCTOR ENGINEERING 
開課學期
96-1 
授課對象
電機資訊學院  電機工程學系  
授課教師
王 倫 
課號
EE4032 
課程識別碼
901 37000 
班次
 
學分
全/半年
半年 
必/選修
選修 
上課時間
星期五5,6,7(12:20~15:10) 
上課地點
電二225 
備註
總人數上限:80人 
Ceiba 課程網頁
http://ceiba.ntu.edu.tw/961semi_eng 
課程簡介影片
 
核心能力關聯
核心能力與課程規劃關聯圖
課程大綱
為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
課程概述

本課程為大學部電子類必選課之一,所講述之內容為積體電路中各種電子元件之製造技
術,為微電子相關學門之基本課程。積體電路技術是現今電子業之礎石,且應用於各種光
電元件製程,本課程所涵誘漁e,學生不論將來從事電子或光電相關之研究,本課程所
給之觀念應有所助益。本課程之後可選修「固態電子學」,或選修研究所之「微影術原
理」、「光學」、「積體電路工程」、「光電半導體技術」等相關課程。
內容大綱:
(17 class days):9/21 9/28 10/5 10/12 10/19 10/26 11/2 11/9 11/16 11/23 11/30
12/7 12/14 12/21 12/28 1/4 1/11

※期中考(2hr):11/9;期末報告1/11;期末考1/18

1.簡介 (Introduction ): 9/21 [1,19]
2. IC製造簡介 (Introduction to IC Fabrication): 9/21, 9/28 [1,19]
3.半導體基礎 (Semiconductor Basics): 10/5 [2,3,5]
4.晶圓製造 (Wafer Manufacturing) 10/12 [4,6]
5.熱製程 (Thermal Processes) 10/19 [10]
6.光學微影術 (Photolithography) 10/26, 11/2 [13,14,15]
7.電漿基礎 (Plasma Basics) 11/9, 11/16 [8]
8.離子佈植(Ion Implantation) 11/23 [17]
9.蝕刻(Etch) 11/30 [16]
10.化學氣相沉積及介電質薄膜(CVD and Dielectric Thin Film)12/7, 12/14 [11]
11.金屬沉積術 (Metallization) 12/21 [12]
12.化學機械研磨 (Chemical Mechanical Polishing) 12/28(1hr) [18]
13.製程整合 (Process Integration) 12/28 [9]
14. CMOS製程與構裝(CMOS Processes and Packaging) 1/4 [20]
※括號內的數字代表對應於書目二參考書的內容。
 

課程目標
to familiarize yourself with standard semiconductor processing
to understand the working principles of various instrumentation
(also refer to Chapter 1 of the assigned textbook) 
課程要求
fullfill all requirements as instructued in the first class 
預期每週課後學習時數
 
Office Hours
每週一 15:00~17:00 備註: 由助教回答問題 
指定閱讀
 
參考書目
1.教科書:Hong Xiao, “Introduction to Semiconductor Manufacturing
Technology,” 2001, Prentice Hall.
2.參考書:Michael Quirk, Julian Serda “Semiconductor Manufacturing
Technology ,” 2001, Prentice Hall.
 
評量方式
(僅供參考)
 
No.
項目
百分比
說明
1. 
作業或平常考 
25% 
see lecture note 1 for detailed instructions 
2. 
期末考 
30% 
date as scheudled in NTU agenda 
3. 
期中考 
25% 
date as scheudled by NTU agenda 
4. 
期末報告 
20% 
as instructed in the class 
 
課程進度
週次
日期
單元主題
第3週
10/03  1.簡介 (Introduction )
2.IC製造簡介 (Introduction to IC Fabrication)
3.半導體基礎 (Semiconductor Basics) 
第4週
10/11  Wafer Manufacturing and Epitaxy Growth 
第5週
10/19  Thermal Processes 
第6週
10/24  Photolithography 
第9週
11/16  Plasma Basics & Ion Implantation 
第9週
11/16  lecture note 
第11週
11/29  Etch 
第12週
12/6  CVD and Dielectric Thin Film 
第14週
12/20  Metallization 
第16週
1/2  Process Integration, Summary and Future Trends